Direction scientifique
Transfert de connaissances vers l'industrie

Programme de stages

Chimie >> Chimie-physique
4 proposition(s).

Réalisation de démonstrateur utilisant la lithographie à multifaisceaux avec les technologies d'auto-assemblage.

DRT/LETI

Chimie - Chimie-physique

Grenoble

Région Rhône-Alpes (38)

6 mois

Ingénieur/Master

3361927

Les candidatures doivent être adressées par email et sous forme d'un CV et d'une lettre de motivation détaillant les compétences à :
CEA Grenoble

17 rue des martyrs
38054 Grenoble
e-mail : ludovic.lattard@ cea.fr

Le LETI, institut CEA Tech de Grenoble, travaille à la mise au point de techniques de lithographie à bas coût au sein de son service Patterning de la plateforme Silicium. L'une de ces techniques est le Direct Self Assembly (DSA) qui doit permettre d'atteindre des faibles dimensions variant entre 10 et 30nm. Une autre technologie est la lithographie à multifaisceaux développée conjointement par le CEA-LETI et la société Mapper Lithography. L'alliance de ces deux technologies peut donc permettre de développer des briques technologiques innovantes afin de répondre à des besoins de la microélectronique utilisant des nœuds technologiques en dessous de 10nm.Le but de ce stage consiste à utiliser des développements faits au sein de différents groupes et de les combiner pour réaliser un démonstrateur sur wafer de Silicium avant gravure. Le candidat devra donc définir en relation avec les différents groupes son plan d'expérience et les différentes caractérisations nécessaires. Le candidat devra montrer une bonne habilité pour des caractérisations claires et précises de ses résultats.Ce stage permettra au candidat de travailler dans le domaine des polymères utilisés pour l'auto-assemblage et dans le domaine de la physique pour l’interaction électron matière. Les qualités requises seront la capacité de travailler de façon transversale dans une structure matricielle avec différentes équipes ainsi que la faculté de travailler en autonomie.

Évaluation des limites de la gravure humide pour la réalisation de connexions électriques micrométriques entre circuits intégrés.

DTSI/SSURF/LSJ

Chimie - Chimie-physique

Grenoble

Région Rhône-Alpes (38)

4 à 6 mois

Ingénieur/Master

3361157

Les candidatures doivent être adressées par email et sous forme d'un CV et d'une lettre de motivation détaillant les compétences à :
CEA Grenoble

17 rue des martyrs
38054 Grenoble
e-mail : laurence.gabette@cea.fr

Cadre de la collaboration et contexte:Au sein de CEA-Tech, la Direction de la recherche technologique du CEA, l'Institut Leti crée de l'innovation et la transfère à l'industrie : il fait ainsi le lien entre la recherche fondamentale et la production de micro et nanotechnologies. Parmi ces technologies, la technologie 3D vise à intégrer des fonctionnalités diverses sur une même puce, ce qui conduit à développer des procédés permettant aux composants d'être superposer et donc de minimiser leur encombrement. Le stage s'intéresse particulièrement à un type d'interconnexion sous forme de piliers micrométriques à base de Cuivre nommés communément Copper pillars. Leur réalisation nécessite un procédé critique de gravure en solution. Diminuer le diamètre des pillars (<10µm) tout en augmentant leur densité, n'est possible que par une optimisation du procédé isotropique de gravure par voie humide . La réalisation des travaux fera appel aux équipements industriels disponibles sur la ligne pilote du LETI et travaillant sur substrat de Si de diamètre 300mm. Travail demandé:Les objectifs de ce stage sont (i) l'optimisation du couple gravure humide / assemblage technologique et (ii) l'identification des tailles minimales de Cu Pillars atteignables. Les premiers assemblages technologiques sur plaques d'études seront réalisés en avance de phase. Ils présenteront des variations sur la composition des Piliers (assemblage Cu, Ni, Au et/ou SnAg), la taille et la densité des motifs.Le stagiaire, après s'être familiarisé avec le processus de création des interconnections, sera formé sur l'équipement industriel de gravure humide, participera à la mise en place des expériences (réflexion sur chimies à utiliser, test de prétraitement avant gravure, paramètres de procédés pertinents…), gérera les gravures et les caractérisations associées (observation au microscope optique, au microscope électronique à balayage, mesures des hauteurs et des diamètres de pillars par interférométrie optique, mesures de résistivité, pesée…). Ce travail permettra de définir et quantifier les différents paramètres impactant la réalisation des Pillars, de tenter de définir des règles de dessin, et de réfléchir à des voies d'amélioration.

Évaluation des limites de la gravure humide pour la réalisation de connexions électriques micrométriques entre circuits intégrés.

DTSI/SSURF/LSJ

Chimie - Chimie-physique

Grenoble

Région Rhône-Alpes (38)

4 à 6 mois

Ingénieur/Master

3355875

Les candidatures doivent être adressées par email et sous forme d'un CV et d'une lettre de motivation détaillant les compétences à :
CEA Grenoble

17 rue des martyrs
38054 Grenoble
e-mail : laurence.gabette@cea.fr

Cadre de la collaboration et contexte:Au sein de CEA-Tech, la Direction de la recherche technologique du CEA, l'Institut Leti crée de l'innovation et la transfère à l'industrie : il fait ainsi le lien entre la recherche fondamentale et la production de micro et nanotechnologies. Parmi ces technologies, la technologie 3D vise à intégrer des fonctionnalités diverses sur une même puce, ce qui conduit à développer des procédés permettant aux composants d'être superposer et donc de minimiser leur encombrement. Le stage s'intéresse particulièrement à un type d'interconnexion sous forme de piliers micrométriques à base de Cuivre nommés communément Copper pillars. Leur réalisation nécessite un procédé critique de gravure en solution. Diminuer le diamètre des pillars (<10µm) tout en augmentant leur densité, n'est possible que par une optimisation du procédé isotropique de gravure par voie humide . La réalisation des travaux fera appel aux équipements industriels disponibles sur la ligne pilote du LETI et travaillant sur substrat de Si de diamètre 300mm. Travail demandé:Les objectifs de ce stage sont (i) l'optimisation du couple gravure humide / assemblage technologique et (ii) l'identification des tailles minimales de Cu Pillars atteignables. Les premiers assemblages technologiques sur plaques d'études seront réalisés en avance de phase. Ils présenteront des variations sur la composition des Piliers (assemblage Cu, Ni, Au et/ou SnAg), la taille et la densité des motifs.Le stagiaire, après s'être familiarisé avec le processus de création des interconnections, sera formé sur l'équipement industriel de gravure humide, participera à la mise en place des expériences (réflexion sur chimies à utiliser, test de prétraitement avant gravure, paramètres de procédés pertinents…), gérera les gravures et les caractérisations associées (observation au microscope optique, au microscope électronique à balayage, mesures des hauteurs et des diamètres de pillars par interférométrie optique, mesures de résistivité, pesée…). Ce travail permettra de définir et quantifier les différents paramètres impactant la réalisation des Pillars, de tenter de définir des règles de dessin, et de réfléchir à des voies d'amélioration.

Développement de protocoles de mesures par méthode directe et indirecte pour la caractérisation de substances industrielles à l’état nanoparticulaire

SPNS/LR2N

Chimie - Chimie-physique

Grenoble

Région Rhône-Alpes (38)

6 mois

Ingénieur/Master

3355559

Les candidatures doivent être adressées par email et sous forme d'un CV et d'une lettre de motivation détaillant les compétences à :
CEA Grenoble

17 rue des martyrs
38054 Grenoble
e-mail : sebastien.artous@cea.fr

La Plateforme NanoSécurité (PNS http://www.minatec.org/recherche/rd-interventions-sur-terrain) du CEA (Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives) réunit dans un bâtiment dédié tous les personnels et laboratoires de recherche et de services liés à la sécurité des nanomatériaux : R&D, mesure, caractérisation, expertise, intervention, formation, ainsi que l'Equipex Nano ID, capable de détecter et d'identifier les nanoparticules. Elle regroupe chercheurs et experts, dont le travail consiste à apporter un appui rapide et opérationnel aux chercheurs et aux partenaires utilisant les nanotechnologies, tout en maintenant au meilleur niveau ses connaissances et compétences dans le domaine de la nanosécurité. Dans le cadre d'un projet national visant à améliorer la faisabilité industrielle de la production des nanomatériaux par la mise à disposition des PME d'outils méthodologiques pour la caractérisation métrologique des nano-objets la PNS implantée sur le site du CEA Grenoble propose un stage ingénieur/Master 2 dont le sujet est : « Développement de protocoles de mesures par méthode directe et indirecte pour la caractérisation de substances industrielles à l'état nanoparticulaire ». Les méthodes indirectes de caractérisation de substances à l'état nanoparticulaire se basent sur une propriété de la substance (mobilité électrique, surface, optique…) pour délivrer une grandeur caractéristique. L'objectif est dans un premier temps d'établir un état de l'art sur ces techniques d'analyses appliquées aux substances industrielles les plus courantes. Dans un second temps l'objectif est de tester et de faire évoluer des protocoles de caractérisation développés grâce à des substances de référence en les éprouvant sur des substances industrielles. Principales tâches du stage- Améliorer ses connaissances dans la métrologie des nanoparticules et nano-objets,- Mise à jour d'un état de l'art- Construction du plan d'expériences- Développement et optimisation de protocoles expérimentaux- Mise en œuvre du protocole chez un industriel - Confrontation des résultats à des caractérisations par microscopie, MEB-EDX- Traitements statistiques- Traitements d'images

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